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本发明涉及晶片清洁设备技术领域，具体为一种快捷的晶片清洁工艺，包括工作箱，所述工作箱包括壳身以及壳盖，所述壳身顶端设置工作槽，所述壳盖底端与工作槽侧壁对应位置设置安装槽，所述安装槽侧壁设置限位装置，所述壳盖底端设置调节槽，所述调节槽内滑动设...
该专利属于广州市鸿浩光电半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过广州市鸿浩光电半导体有限公司授权不得商用。

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