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本发明提供一种监测刻蚀腔体颗粒的方法、装置、服务器及可读存储介质，在对刻蚀机台进行WAC工艺时，通过光谱EPD模块获取刻蚀机台内光谱信号强度随时间变化的EPD曲线，并通过对EPD曲线进行微分处理，可获取EPD微分曲线，并通过获取EPD曲线中...
该专利属于杭州富芯半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过杭州富芯半导体有限公司授权不得商用。

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