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本发明公开一种利用化学气相沉积法包覆阻燃性膜层的方法，所述方法包括：(1)向反应器内通入惰性气体进行吹扫；(2)吹扫结束后，向反应器内通入由惰性气体稀释的硅基前驱体，真空条件下在基底材料表面沉积硅膜层。优选的，所述方法还包括继续向反应器中通...
该专利属于四川大学所有，仅供学习研究参考，未经过四川大学授权不得商用。

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