下载存储器件及其制造方法的技术资料

文档序号:32871214

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本发明实施例阐述一种包括字线、源极线、位线、存储层、沟道材料层的存储器件。字线在第一方向上延伸,且衬层设置在字线的侧壁上。存储层在衬层之间设置在字线的侧壁上且在第一方向上沿着衬层的侧壁延伸。衬层通过存储层间隔开且衬层夹置在存储层与字线之间。...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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