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实施方式提供一种能够使杂质的扩散范围稳定的半导体装置及其制造方法。一实施方式的半导体装置具备：衬底；配线层，设置在衬底上，且包含第1膜；积层体，在配线层上将多个第1层与多个第2层交替地积层而成；单元膜，设置在积层体内；半导体膜，在积层体内与...
该专利属于铠侠股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过铠侠股份有限公司授权不得商用。

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