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本发明涉及一种化学机械抛光垫，其包括第一材料的表面部分。所述表面部分包括多个沟槽。所述沟槽的第一部分为位于所述化学机械抛光垫的表面处的暴露沟槽。所述沟槽的第二部分为嵌入所述化学机械抛光垫的表面下方的埋入式沟槽，使得在使用所述化学机械抛光垫期...
该专利属于CMC材料股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过CMC材料股份有限公司授权不得商用。

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