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本申请案涉及一种衬底处理装置及半导体装置的制造方法。实施方式提供一种可容易提高衬底面内的药液处理的均匀性的衬底处理装置。一实施方式的衬底处理装置具备：处理槽，存放处理多块衬底的药液；配管，具有将药液或气泡喷出到处理槽内的喷出口；多根杆状体，...
该专利属于铠侠股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过铠侠股份有限公司授权不得商用。

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