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一种基于单宁酸的正性光刻材料及其制备方法、光刻胶体系及在制备微纳电路中的应用技术
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文档序号:32478015
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本发明提供了一种基于单宁酸的正性光刻材料及其制备方法、光刻胶体系及在制备微纳电路中的应用,所述正性光刻材料是通过将单宁酸依次与二碳酸二叔丁酯和甲基丙烯酰氯进行接枝反应得到,之后采用上述正性光刻材料为主要成分制备得到光刻胶体系,使用该光刻胶体...
该专利属于山东大学所有,仅供学习研究参考,未经过山东大学授权不得商用。
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