下载一种基于单宁酸的正性光刻材料及其制备方法、光刻胶体系及在制备微纳电路中的应用的技术资料

文档序号:32478015

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本发明提供了一种基于单宁酸的正性光刻材料及其制备方法、光刻胶体系及在制备微纳电路中的应用,所述正性光刻材料是通过将单宁酸依次与二碳酸二叔丁酯和甲基丙烯酰氯进行接枝反应得到,之后采用上述正性光刻材料为主要成分制备得到光刻胶体系,使用该光刻胶体...
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