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本发明公开了一种抛光垫和使用抛光垫制备半导体器件的方法。具体地，本发明提供了一种抛光垫、用于制备该抛光垫的工艺，以及使用该抛光垫制备半导体器件的工艺。在抛光垫中，根据抛光浆料的类型将抛光表面的表面zeta电位及其比率控制在特定范围内，由此可...
该专利属于SKC索密思株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过SKC索密思株式会社授权不得商用。

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