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非易失性存储器件的擦除方法及存储设备的操作方法技术
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文档序号:32446871
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一种非易失性存储器件包括存储块,所述存储块包括形成在衬底上的第一结构和形成在所述第一结构上的第二结构。所述非易失性存储器件的擦除方法包括:向所述第一结构的第一正常字线和所述第二结构的第二正常字线施加字线擦除电压;以及向所述第一结构的第一结字...
该专利属于三星电子株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三星电子株式会社授权不得商用。
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