专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
三星电子株式会社
>
半导体器件及其制造方法技术
>技术资料下载
下载半导体器件及其制造方法的技术资料
文档序号:32433147
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
一种半导体器件,包括:衬底,包括沿第一方向的第一区域和第二区域、以及在第一区域和第二区域之间的第三区域;有源图案,在衬底上沿第一方向延伸;以及第一栅电极至第三栅电极,在有源图案上彼此间隔开并且沿第二方向延伸,第一区域的有源图案包括彼此间隔开...
该专利属于三星电子株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三星电子株式会社授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。