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本发明提供真空处理装置和真空处理装置的控制方法。能够调整载置台的倾斜度并且抑制处理容器内的微粒的产生。载置台设于处理容器内，用于载置基板。支承构件贯穿在处理容器的底部形成的开口部并自下方支承载置台。保持部位于处理容器的外侧，支承构件的端部固...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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