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被处理体的处理装置制造方法及图纸
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文档序号:3237228
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本发明是一种被处理体的处理装置,其特征在于,包括:能够将内部抽成真空的处理容器、向上述处理容器内导入规定气体的气体导入单元、设置在上述处理容器内的支撑台、设置在上述支撑台上的用于支撑被处理体的环状支撑部、在上述支撑部的内侧的设置在上述支撑台...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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