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本发明是提供一种半导体装置及其制作方法。其中半导体装置具有一理想化应力于沟道区域之中，此半导体装置包含一栅极位于一基底上方，一第一间隙壁形成于栅极侧壁上，且在该第一间隙壁下方存在一非硅化区域，包含一凹槽的一源／漏极区域形成于上述基底之中，以...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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