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文档序号:3234383
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本发明公开的分析装置,包括:第一处理部,其通过照射紫外线,除去在基板上形成的覆盖膜;第二处理部,其向基板的表面供给溶解液,使基板上的分析对象物质溶解;和第三处理部,其对第二工序中使用的溶解液中的分析对象物质进行分析。...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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