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本发明涉及一种衬底传送方法，传送系统和光刻投影设备。该衬底传送方法通过采用传送单元基于有效传送数据将衬底从第一衬底保持器（例如预对准单元）传送至第二衬底保持器（例如光刻设备中的衬底台）的方法。首先，在第一衬底保持器上提供衬底，接着，测量衬底...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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