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本发明提供一种基板处理系统及基板处理方法。该基板处理系统包括：承载块（Ｓ１）；处理块（Ｓ２），具有对从承载块（Ｓ１）逐块搬入的基板进行第１次涂敷处理的第一涂敷处理部（３１）、进行第１次显影处理的第一显影处理部（４１）、进行第２次涂敷处理的第...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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