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本发明公开一种金属氧化物半导体场效应晶体管,包括:半导体衬底;栅极绝缘介电层,位于所述半导体衬底表面上;栅极,叠加在所述栅极绝缘介电层上表面;源极区域和漏极区域,设置在所述栅极两侧的半导体衬底表面区域中,所述源极区域和漏极区域由沟道区隔开;...该专利属于上海宏力半导体制造有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海宏力半导体制造有限公司授权不得商用。
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本发明公开一种金属氧化物半导体场效应晶体管,包括:半导体衬底;栅极绝缘介电层,位于所述半导体衬底表面上;栅极,叠加在所述栅极绝缘介电层上表面;源极区域和漏极区域,设置在所述栅极两侧的半导体衬底表面区域中,所述源极区域和漏极区域由沟道区隔开;...