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高清晰阳极化的内层界面制造技术
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下载高清晰阳极化的内层界面的技术资料
文档序号:3223959
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一种半导体结构在半导体岛区(54)和隔离内层(50)之间具有渡越厚度小于1500埃的高清晰度界面.为了生成这种结构,在复合外延层(54)和N+[+].内层(50)上开槽(62).内层(50)被在高压和低温条件下阳极化和氧化处理,以减少N杂质...
该专利属于德克萨斯仪器公司所有,仅供学习研究参考,未经过德克萨斯仪器公司授权不得商用。
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