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互补型金属氧化物半导体场效应晶体管的制造方法技术
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文档序号:3222208
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一种利用双侧壁子以及大角离子布植的互补型金氧半场效应晶体管的制造方法,其可在一硅基板上形成N通道和P通道场效应晶体管,其步骤如下:a、提供一具有P型井区、N型井区及数个栅极的硅基板;b、以栅极为光罩形成一N型离子植入区;C、形成第一侧壁子;...
该专利属于台湾茂矽电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾茂矽电子股份有限公司授权不得商用。
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