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半导体装置及其制造方法制造方法及图纸
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文档序号:3218915
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不会增加电阻和降低抗EM能力及引起Al凝结的在高宽比高的连接孔内形成Al镶嵌布线的技术。通过形成覆盖连接孔及布线沟(凹部)的内表面的Nb衬膜6,利用溅射在Nb衬膜6上形成不填充凹部内部的第一Al膜7,使其表面吸附氧气8,边加热Si衬底1边在...
该专利属于株式会社东芝所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社东芝授权不得商用。
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