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一种溅射装置，在处理室的上方具有多个以同心状配置的环状靶材，在处理室内部设有用于保持半导体基板的支架，靶材及支架连接直流电源。此外，在处理室上连接有内部抽真空用真空泵，还连接有向内部导入等离子体产生用待处理气体通常是氩气的气体供应源。通过分...
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