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通过沉积物与光阻产生交联反应以减少光阻粗糙度的方法技术
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下载通过沉积物与光阻产生交联反应以减少光阻粗糙度的方法的技术资料
文档序号:3215000
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一种通过沉积物与光阻产生交联反应以减少光阻粗糙度的方法,此方法包括对具有光阻图案的一个基底依序进行一个曝光步骤与一个曝光后烘烤步骤,使光阻图案表面活性化。接着,在光阻图案的表面覆盖一层材料层,此材料层会与光阻图案表面产生交联反应形成一层修补...
该专利属于旺宏电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过旺宏电子股份有限公司授权不得商用。
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