专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
旺宏电子股份有限公司
>
制作金属氧化物半导体场效应晶体管的方法技术
>技术资料下载
下载制作金属氧化物半导体场效应晶体管的方法的技术资料
文档序号:3214664
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
一种制作金属氧化物半导体场效应晶体管的方法,包括:提供一至少包括一底材晶片;形成一渠沟于底材内;形成一闸极于渠沟的底部;形成一间隙壁于闸极的两侧并填满渠沟;植入离子于间隙壁两侧的底材内;进行第一快速加热制程以在底材内形成一源极/漏极区域与一...
该专利属于旺宏电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过旺宏电子股份有限公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。