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减少化学机械研磨工艺缺陷的电路布局及其制造方法技术
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文档序号:3213059
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一种减少化学机械研磨工艺缺陷的电路布局及其制造方法,适用于减少化学机械研磨的工艺缺陷,该半导体基板上包含多条第一电路结构与至少两条的第二电路结构,其中第二电路结构用以分别串接多条第一电路结构的前端与后端,以利于化学机械研磨工艺中平均多条第一...
该专利属于旺宏电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过旺宏电子股份有限公司授权不得商用。
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