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非易失性内存及其制造方法技术
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文档序号:3212511
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一种非挥发性内存及其制造方法,其结构于一基底中具有一沟渠,而有一埋入式位线横越此沟渠,且有一字线至少覆盖此沟渠并越过埋入式位线,又于基底与字线之间有一层电荷捕捉层。...
该专利属于旺宏电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过旺宏电子股份有限公司授权不得商用。
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