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一种包含Ｃ＃－［２］Ｈ＃－［ｘ］Ｆ＃－［ｙ］蚀刻剂，其中ｘ是２－５的整数，ｙ是１－４的整数，ｘ＋ｙ等于６。该蚀刻剂能以相对于未掺杂二氧化硅和氮化硅的选择性蚀刻掺杂的二氧化硅。因此，在使用含Ｃ＃－［２］Ｈ＃－［ｘ］Ｆ＃－［ｙ］的蚀刻剂的干蚀刻...
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