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本发明提供一种真空环境下的低温吸附与再生系统，该系统包括主腔室、工件台、冷板、再生系统、真空系统和制冷系统；在所述主腔室内设置有所述工件台和所述冷板；所述再生系统设置在所述冷板外围，用于所述冷板的再生；所述真空系统布置在所述主腔室的顶部外侧...
该专利属于清华大学所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学授权不得商用。

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