专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
ASML控股股份有限公司
>
具有垂直于晶片台的光罩台的反射折射光刻系统及方法技术方案
>技术资料下载
下载具有垂直于晶片台的光罩台的反射折射光刻系统及方法的技术资料
文档序号:3209899
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
一种光刻装置,包括: 透射或反射影像的光罩台; 晶片台;以及 反射折射曝光光学装置组件,在所述光罩台与所述晶片台之间取向,按全等方式将所述影像投射于所述晶片台上。...
该专利属于ASML控股股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASML控股股份有限公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。