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本发明提供一种阳极氧化装置及阳极氧化方法，对被处理基板的被处理部的光照射均匀，由此在被处理基板面内能进行更均匀的阳极氧化处理。其具备：放射光的灯；设置于放射的光到达的位置上、可以保持被处理基板的被处理基板保持部；设置于放射的光到达被处理基板...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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