阳极氧化装置、阳极氧化方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种阳极氧化装置及阳极氧化方法，对被处理基板的被处理部的光照射均匀，由此在被处理基板面内能进行更均匀的阳极氧化处理。其具备：放射光的灯；设置于放射的光到达的位置上、可以保持被处理基板的被处理基板保持部；设置于放射的光到达被处理基板的途中、具有用于使光通过的开口部并具有不透过光的导体部的阴极电极；使阴极电极、上述灯或被处理基板保持部的空间位置周期振动的振动机构。维持灯、阴极电极、保持被处理基板的被处理基板保持部的这三者的大概位置关系，使其中的至少一个的空间位置周期地振动，由此，阴极电极的影子在被处理基板上随时间的推移而分散。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及以被处理基板作为阳极并进行电化学处理的阳极氧化装置及阳极氧化方法，特别涉及处理时适合于进行光照射的阳极氧化的阳极氧化装置及阳极氧化方法。
技术介绍
对被处理基板进行电化学阳极氧化的处理，可被利用于各种情况。作为这样的阳极氧化之一，有对多晶硅层进行多孔化的处理。简言之，即，在表面形成有多晶硅层的被处理基板，通过导电体，由电源的正电位极通电且浸入到溶解于溶剂(例如乙醇)的氟酸溶液中。例如由铂制成的电极浸入到氟酸溶液中即药液中，由上述电源的负电位极通电。另外，利用灯向浸入到药液中的被处理基板的多晶硅层照射光。由此，多晶硅层的一部分溶解至氟酸溶液中。因为该溶解出的痕迹形成为细孔，所以硅层进行了多孔化。另外，灯光的照射是为了在上述溶解、多孔化反应时，在多晶硅层上生成需要的空穴。仅供参考，在这样的阳极氧化中的多晶硅层的反应例如说明如下。在此，e+是空穴，e-是电子。即，在该反应中，作为前提，空穴是必要的，仅是与电解研磨不同。这样，在生成的多孔硅的微观水平的表面进一步形成硅氧化层时，成为适合作为高效率的电场放射型电子源的物质，例如，这在特开2000-164115号公报、特开200本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阳极氧化装置，其特征在于：具备：　　　　放射光的灯；　　　　设置于所述放射的光到达的位置上、可以保持被处理基板的被处理基板保持部；　　　　设置于所述放射的光到达所述保持的被处理基板的途中、具有用于使所述光通过的开口部并具有不透过所述光的导体部的阴极电极；　　　　使所述阴极电极、所述灯或所述被处理基板保持部的空间位置周期振动的振动机构。

【技术特征摘要】
JP 2001-11-8 342803/011.一种阳极氧化装置，其特征在于具备放射光的灯；设置于所述放射的光到达的位置上、可以保持被处理基板的被处理基板保持部；设置于所述放射的光到达所述保持的被处理基板的途中、具有用于使所述光通过的开口部并具有不透过所述光的导体部的阴极电极；使所述阴极电极、所述灯或所述被处理基板保持部的空间位置周期振动的振动机构。2.一种阳极氧化装置，其特征在于具备能保持被处理基板的被处理基板保持部；与所述保持的被处理基板相连接地设置、形成上部开放的处理槽的壁体；向所述处理槽供给处理液的处理液供给部；与所述保持的被处理基板相对向地设置、向所述保持的被处理基板放射光的灯组件；设置于所述保持的被处理基板和所述灯组件之间、且具有使光通过的开口部的阴极电极；使所述阴极电极相对于所述保持的被处理基板做相对振动的振动机构。3.根据权利要求1或2所述的阳极氧化装置，其特征在于所述振动机构使所述阴极电极、所述灯、所述灯组件或所述被处理基板保持部在与所述放射的光的放射方向近乎垂直的平面上振动4.根据权利要求1或2所述的阳极氧化装置，其特征在于所述振动机构使所述阴极电极、所述灯、所述灯组件或所述被处理基板保持部在与所述放射的光的放射方向近乎平行的平面上振动。5.根据权利要求3所述的阳极氧化装置，其特征在于所述振动是往复运动、圆运动或椭圆运动。6.根据权利要求4所述的阳极氧化装置，其特征在于所述振动是往复运动、圆运动或椭圆运动。7.根据权利要求5所述的阳极氧化装置，其特征在于所述阴...

【专利技术属性】
技术研发人员：八木靖司，青木一二，牛岛满，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]