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一种方法，包括的步骤有：　　　　在真空处理区处理从真空输入区接收的掩模版；　　　　把掩模版储藏在真空库中；　　　　对储藏的掩模版加索引；和　　　　根据所述加索引步骤，从真空库检索请求用于在晶片上曝光的某一图形的掩模版。...
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