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本发明提供稳定形成长宽比高的抗蚀剂图案的抗蚀剂图案形成方法和用于形成该抗蚀剂图案的材料。在硅片Ｗ上形成抗蚀剂膜１。接着，通过曝光掩模Ｍ进行曝光后，进行曝光后烘烤。在曝光后烘烤后的硅片Ｗ上，形成抗蚀剂表层处理剂膜２，进行混合烘烤。由混合烘烤形...
该专利属于株式会社瑞萨科技所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社瑞萨科技授权不得商用。

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