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一种光刻投影装置包括：　　　　－一辐射系统，用于提供辐射投影束；　　　　－一支撑结构，用于支撑图案形成装置，所述图案形成装置用于依照一想要的图案对投影束进行构图；　　　　－一基底台，用于支撑一基底；　　　　－一投影系统，用于将构成一定图案的...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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