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一种光刻投射装置，包括：－辐射系统，用于提供辐射的投射束；－支撑结构，用于支撑构图部件，该构图部件用于根据理想图案而对投射束构图；－基底台，用于支撑基底；－投射系统，用于将带图案的光束投射到基底的靶部上； ...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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