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一种在等离子体处理室中控制光致抗蚀剂蚀刻步骤的方法，所述光致抗蚀剂蚀刻步骤设计成将沉积在衬底表面上的光致抗蚀层向后蚀刻成具有预定光致抗蚀剂厚度的更薄的光致抗蚀层，所述方法包括：　　　　使用等离子体蚀刻过程蚀刻所述光致抗蚀层；　　　　检测来自...
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