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一种光刻投射装置包括：　　　　一辐射系统，以提供辐射投射光束；　　　　一构图部件，用于根据需要的图案对该投射光束进行构图；　　　　一基底台，以支持一基底；及　　　　一投射系统，以将该带图案的光束投射到该基底的靶部上，　　　　一流体处理单元，...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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