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一种光刻投射设备，其包括：用于支承形成图案装置的支承结构，该形成图案装置用来按照所需图案为投射射束形成图案；用于保持基底的基底台；用于将形成图案射束投射在基底靶部的投射系统；其特征在于，该设备还包括： ...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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