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一种无掩模纳米图形制作方法，其特征在于：包括下列步骤：　　　　（１）产生亚稳态原子流；　　　　（２）将亚稳态原子流射入真空工作室中，利用真空室中加有偏转电压的平板电极产生偏转电场区，除掉原子流中的电子和正离子，并用带小孔的光阑对原子流进行准...
该专利属于中国科学院光电技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院光电技术研究所授权不得商用。

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