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一种方法，用于确定供光刻投影设备使用的图案形成装置的投影光束源强度分布和光学邻近修正规则，所述设备包括：　　　　－　　辐射系统，用于提供辐射投影光束；　　　　－　　支撑结构，用于支撑图案形成装置，所述图案形成装置用于使所述投影光束具有与所需...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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