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一种器件制造方法，包括步骤：　　　　提供基片，所述基片至少部分被光敏感材料层覆盖；　　　　利用辐射系统提供投影光束；　　　　提供至少一个形成图案机构，其包括器件图案；　　　　使用所述至少一个形成图案机构，使所述投影光束带有所述器件图案；　　...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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