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本发明提出光刻装置及设备制造方法。采用一传感器４检测自一反射器３所辐射的发光射线５，发光射线５是由入射至所述反射器３的一表面３ａ上的所述辐射光束２所引起的状态改变的结果。特定波长的发光射线５的强度可用于确定辐射光束２的强度。...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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