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本发明提出光刻装置、器件制造方法及其由此而制造的器件。在密封有基片平台ＷＴ的壳体１０与用于制备基片的处理单元１１之间传递基片，在一个基本不含杂质的环境中进行，这样基片上的抗蚀剂在杂质中暴露的最少，其中处理单元用于使基片曝光并在曝光后对基片进...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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