温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种化学机械研磨机台的调节器清洗装置，其特征是，该装置包括：　　　　一溢流槽；　　　　一清洗液供应装置，该清洗液供应装置与该溢流槽连通，其供应一清洗液至该溢流槽中；以及　　　　一清洗单元，装设在该溢流槽中。...
该专利属于旺宏电子股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过旺宏电子股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。