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等离子体处理容器内部件制造技术
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文档序号:3208333
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一种等离子体处理容器内部件,具有基材和在其表面通过喷镀陶瓷而形成的膜,其特征在于, 构成所述膜的陶瓷含有选自B、Mg、Al、Si、Ca、Cr、Y、Zr、Ta、Ce和Nd中的至少1种元素,其中,至少一部分由树脂进行封孔处理。...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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