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集成半导体装置及其制造方法制造方法及图纸
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文档序号:3208308
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一种设有多个在半导体层内形成的、包含第一导电型半导体的源极、第一导电型半导体的漏极以及介于所述源极和漏极之间的第二导电型半导体的本体区的半导体元件的集成半导体装置,其中: 一个半导体元件中的漏极的至少预定部分上的杂质浓度与另一半导体元...
该专利属于株式会社瑞萨科技所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社瑞萨科技授权不得商用。
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