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文档序号:3208131
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半导体衬底(1)上形成阱(2)。该阱(2)内,分别形成包括栅电极(7a)、源区(4b)、源电场缓和层(5b)和源、漏区(5a)的一个MOS晶体管(T1)和包括栅电极(7b)、漏区(4a)、漏电场缓和层(5c)和源、漏区(5a)的另一个MOS...
该专利属于株式会社瑞萨科技所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社瑞萨科技授权不得商用。
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