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一种浅沟渠隔离结构的制造方法，此方法提供一基底，并于基底上已依序形成有垫氧化层、罩幕层与第一沟渠，接着于第一沟渠内与基底上形成绝缘层以填满第一沟渠，且在第一沟渠上方的绝缘层具有第二沟渠。然后，于绝缘层上形成共形的帽盖层，且在第二沟渠上方的帽...
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