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一种半导体结构的制造方法，其在部分的闸极介电薄膜上形成金属闸极后，利用例如热处理（Ｔｈｅｒｍａｌ　Ｔｒｅａｔｍｅｎｔ）的方式使位于金属闸极下方的闸极介电薄膜转变成高介电常数（Ｈｉｇｈ－ｋ）介电层。如此一来，即可顺利地将闸极介电薄膜转化形成具...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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