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一种多层叉合(Interdigitated)金属电容结构,其每一层由两个极性不同的梳状结构金属电极彼此叉合而构成,并且任两相邻层中的金属电极的梳状结构互相垂直,并借由梳状结构边上的介层窗(Via)连接同极性金属电极。其中,任两金属电极之间被...该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。
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一种多层叉合(Interdigitated)金属电容结构,其每一层由两个极性不同的梳状结构金属电极彼此叉合而构成,并且任两相邻层中的金属电极的梳状结构互相垂直,并借由梳状结构边上的介层窗(Via)连接同极性金属电极。其中,任两金属电极之间被...